国产最先进光刻机（国产光刻机）

马上就要入睡了，国内又传来了三大好消息，太振奋了！第一个好消息：国产芯片设备取得新突破，适配多种光刻机，第三代前道浸没式高产能涂胶显影机正式发布。近日，芯源微召开了国产浸没式高产能涂胶显影机新品发布会。该款设备能匹配全球主流光刻机联机生产，通过选配可全面覆盖I-lie、KrF、ArFdry

国产半导体距离高端工艺有多远？中微3m蚀刻机已经完成原型机Alpha的设计、制造、测试及初步的工艺开发和评估，并已进入量产阶段，要知道蚀刻机在造芯生产的重要程度不亚于光刻机，因为画出来还得能刻出来， 这个才是真正的“刻”！没有光刻机是“画”出图纸，虽然这个领域我们国内技术处于落差较大的状态，但

如果让我来猜，我的答案就是100%国产的光刻机，永远都不会“赶上来”！只有“国际合作”的中国光刻机才有可能“赶上来”。就连号称科技实力全地球第一的美国，也只是拥有大量光刻机技术的IP，但美国自己可没有去生产光刻机。而事实上已经垄断光刻机的ASML，其光刻机的光源是从美国获得，光学镜头是从德国获得

“光刻机获得重大突破”、“芯片获得重大突破”、“国产抗新冠*物获得重大突破”…，希望这个消息是真的

你真牛，中芯国际都不敢这么说。真要实现全国产14纳米，中国还害怕美国封锁，真是幼稚，现在最先进的纯国产成熟光刻机是上海微电子的90纳米。独有o？//

你真牛，中芯国际都不敢这么说。真要实现全国产14纳米，中国还害怕美国封锁？现在最先进的纯国产成熟光刻机是上海微电子的90纳米。独有o？//

国家应该加大力度研究国产光刻机，才能摆脱老美的限制，有了自己的光刻机才能提升我们国家发展。

公开资料收集一下国产光刻机的信息如下：光源：北京科益虹源光源已实现供货。科益虹源的浸没光刻光源已经实现6kHz重频下60W的激光输出功率，进入国际上最高端的DUV光该刻光源产品系列。其徐州经济开发区的生产基地建成后，将年产RS222型光刻准分子激光器等设备30台。东方中科是中科院旗下唯一的上

天天报导芯片光刻机消息，最紧要知道是现阶段国内已量产哪些产品？

相信大众手机网民所关心的，是“新型光刻机”能否和何时实现量产出7m或更低制程的5G芯，大量供应国产手机使用，踢走ASML光刻机，和对美国芯片制裁说拜拜。

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